制约劈尖干涉条纹间距的因素：

劈尖干涉是一种薄膜干涉，其装置如图甲所示，将一块平板玻璃放置在另一平板玻璃之上，在一端夹入一极薄的垫片，从而在两玻璃表面之间形成一个劈形空气薄膜。当光垂直入射后，从上往下看到的干涉条纹如图乙所示。干涉条纹有如下特点：
(1)任意一条亮条纹或暗条纹所在位置对应的薄膜厚度相等；
(2)任意相邻亮奈纹和暗条纹所对应的薄膜厚度差恒定。


光线在空气膜的上、下表面上反射，并发生干涉，从而形成干涉条纹。设空气膜顶角为处为两相邻条纹，如图所示，则两处路程差分别为因为所以设条纹间距为则由几何关系得即在角很小时，有，则可以看出，劈尖干涉中条纹宽度取决于入射光波的波长和劈尖顶角大小

爱因斯坦光电效应方程：

E_k=hυ-W（E_k是光电子的最大初动能；W是逸出功，即从金属表面直接飞出的光电子克服正电荷引力所做的功。）

光电效应的解法：

(1)对光电效应规律的问题掌握两条线索、明确各概念间的对应关系。
①入射光频率→决定光子能量→决定光电子的最大初动能。
②入射光强度→决定单位时间内接收的光子数→决定单位时间内发射的光电子数。即：

(2)对光电效应方程的应用，在理解光电效应方程的基础上，可以由方程式判定最大初动能的变化，比较逸出功、极限频率等情况，还可从图线的斜率、截距等求解相关问题。

光的强度与光电流强度：

(1)关于光强光强是指单位时间内通过垂直于光的传播方向上单位面积的能量，其计算公式为式中的Ⅳ为单位时间内通过垂直于光的传播方向上单位面积的光子数。同频率的光的强度随Ⅳ的不同而不同。 Ⅳ相同而频率不同的两种光其光的强度也不同。由此可见，光的强度是由光的频率v和光子数N共同决定的。
(2)关于单位时间内的光电子数在产生光电效应的前提下．因为一个电子成为光电子只能吸收一个光子的能量，所以一定频率的光的强度增大，则光电子数增加；不同频率的光，即使光强增大，逸出的光电子数也不一定多。
(3)关于光电流强度光电流强度是指光电流的饱和值(对应从阴极发射出的电子全部被拉向阳极的状态)，因为光电流未达到饱和值前，其大小不仅与入射光的强度有关，还与光电管两极间的电压有关，只有在光电流达到饱和值后才和入射光的强度成正比。在入射光频率不变的情况下，光强正比于单位时间内照射到金属表面上单位面积的光子数，但若换用不同频率的光照射，即使光强相同，从金属表面逸出的光电子数也不相同，形成的光电流也不同。

光电效应的两个图像：

(1)光电子的最大初动能随入射光频率变化而变化的图像如图所示。

依据可知：当即图线在横轴上的截距在数值上等于金属的极限频率。
斜率普朗克常量。
图线在纵轴上的截距在数值上等于金属的逸出功：
(2)光电流随外电压变化而变化的规律
如图所示，纵轴表示光电流，横轴表示阴、阳两极处所加外电压。

当时，光电流恰好为零，此时能求出光电子的最大初动能，即此电压称为遏止电压。
当时，光电流恰达到饱和光电流，此时所有光电子都参与了导电，电流最大为