我国目前广泛应用三氯氢硅氢还原法制备多晶硅。制备三氯氢硅的反应为：
Si(s)＋3HCl(g) ="=" SiHCl₃(g)＋H₂(g)  ΔH="-210" kJ/mol。
伴随的副反应有：Si(s)＋4HCl(g) ="=" SiCl₄(g)＋2H₂(g)  ΔH="-241" kJ/mol。
SiCl₄在一定条件下与H₂反应可转化为SiHCl₃，反应的热化学方程式为：

A．SiCl4＋H2 ="=" SiHCl3＋HClΔH=" +31" kJ/mol

B．SiCl4＋H2 ="=" SiHCl3＋2HCl ΔH=" -31" kJ/mol

C．SiCl4(g)＋H2(g) ="=" SiHCl3(g)＋HCl(g) ΔH="+31" kJ/mol

D．SiCl4(g)＋H2(g) ="=" SiHCl3(g)＋2HCl(g) ΔH=" -31" kJ/mol